产品用途

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品组成

PECVD系统配置；

1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统（单独购买）

产品特点

电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

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系统名称

集成型PECVD系统

1200℃小型PECVD系统

系统型号

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系统

手动

温度

1200℃

加热区长度

200mm

恒温区长度

100mm

温区

单温区

石英管管径

Φ60mm

Φ50mm

额定功率

1.2Kw

2Kw

额定电压

220V

滑动方式及距离

自动滑动;200mm

手动滑动;200mm